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低溫等離子處理設(shè)備

簡要描述：低溫等離子處理設(shè)備,Diener 等離子去膠機(jī) Tetra16專用軟件支持自動(dòng)/手動(dòng)操作模式可切換（自動(dòng)模式下可儲(chǔ)存多套工藝程序），支持操作權(quán)限分級(jí)設(shè)定

所在城市：國外
廠商性質(zhì)：代理商
更新日期：2024-12-02
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Diener

聚對(duì)二甲苯涂層常壓等離子等離子蝕刻機(jī) 等離子去膠機(jī) 等離子體發(fā)生器等離子表面處理儀低壓等離子表面處理設(shè)備查看全部產(chǎn)品

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詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	價(jià)格區(qū)間	面議
樣品腔尺寸	250x250x250cm	控制方式	全自動(dòng)控制（自動(dòng)/手動(dòng)切換）
功率	1200W	氣路	1-10
樣品腔材質(zhì)	鋁合金	樣品腔容積	16LL
產(chǎn)地類別	進(jìn)口	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,石油,電子/電池

低溫等離子處理設(shè)備特點(diǎn)：

· Diener 等離子去膠機(jī) Tetra16便捷的觸摸屏操作界面

· 專用軟件支持自動(dòng)/手動(dòng)操作模式可切換（自動(dòng)模式下可儲(chǔ)存多套工藝程序），支持操作權(quán)限分級(jí)設(shè)定

· 數(shù)字及圖形化工藝參數(shù)控制及實(shí)時(shí)顯示

· 支持6＂/8＂/12＂ wafer的去膠清洗

· 安全及異常報(bào)警功能

· Diener 等離子去膠機(jī) Tetra16多語言：法語、英語，德語，中文

低溫等離子處理設(shè)備用途：

· 去除光刻膠

· 干刻或濕刻處理前或后

· SU-8或其他環(huán)氧基樹脂

· MEMS制造中去除犧牲層

·去除光刻膠，SU-8，環(huán)氧樹脂

上海爾迪儀器科技有限公司是一家代理經(jīng)銷國內(nèi)外儀器的專業(yè)公司。秉承“銷售*儀器、提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)”的宗旨，在制藥、化工、環(huán)保、科研、大學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域開拓了廣泛的市場(chǎng)，并贏得了廣大用戶的支持和信賴。

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· 去除光刻膠

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