Bruker布魯克 XRD JV-QCVelox X射線衍射儀

Bruker布魯克 JV-QCVelox X射線衍射儀 XRD

——用于 LED 和外延層晶圓分析的生產(chǎn)專用高分辨率 X 射線衍射系統(tǒng)

產(chǎn) 品 概 述

Bruker’的 JV-QCVelox 是長(zhǎng)期運(yùn)行的 JV-QC 儀器中新、先進(jìn)的 HRXRD。
它是化合物半導(dǎo)體行業(yè)高分辨率 X 射線衍射的專用質(zhì)量控制工具。 它適用于表征所有常見(jiàn)的半導(dǎo)體襯底，包括Si、GaAs、InP、GaN 等。
測(cè)量可以部分或*自動(dòng)化運(yùn)行，用戶可自定義的腳本處理日常工作。

VeloMAX™ 光學(xué)器件：通過(guò) 10 倍以上的強(qiáng)度改進(jìn)實(shí)現(xiàn)高生產(chǎn)率

JV-QC-Velox 系統(tǒng)的入射光束包括許多標(biāo)準(zhǔn)功能以獲得高強(qiáng)度。 晶體選擇根據(jù)材料進(jìn)行了優(yōu)化：

·在不損失分辨率的情況下，提高了通量并提高了可重復(fù)性。
·在不降低分辨率的情況下，可以實(shí)現(xiàn)比以前更快的測(cè)量和更高的精度。 這是在 MQW 分析中保持準(zhǔn)確的成分值的關(guān)鍵。
·多層反射鏡作為所有 JV-QC-Velox 系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置
·對(duì)于高鑲嵌樣品，使用 25 英寸的調(diào)節(jié)晶體發(fā)散角來(lái)增強(qiáng)系統(tǒng)（標(biāo)配）
·對(duì)于傳統(tǒng)的 III-V 系統(tǒng)，可以提供更高分辨率的調(diào)節(jié)晶體 (<10”) 來(lái)代替 25” 晶體（需要在采購(gòu)訂單上注明）
·系統(tǒng)的校準(zhǔn)可以輕松安全地進(jìn)行，機(jī)柜中沒(méi)有開(kāi)梁。

·檢測(cè)器級(jí)包括許多標(biāo)準(zhǔn)功能，可以增強(qiáng)系統(tǒng)的能力
·EDRc（增強(qiáng)動(dòng)態(tài)范圍）檢測(cè)器的動(dòng)態(tài)范圍 > 2x107
·自動(dòng)衰減器，通過(guò)控制軟件進(jìn)行控制。這將系統(tǒng)動(dòng)態(tài)范圍增加到超過(guò)3x108

·三軸晶體是獲得所需晶體的關(guān)鍵GaN測(cè)量的分辨率。
·電動(dòng)探測(cè)器狹縫允許對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制分辨率，無(wú)需手動(dòng)更換模塊
·所有探測(cè)器級(jí)組件都是自動(dòng)對(duì)齊的通過(guò)電腦

HRXRD 技術(shù)

材料：?jiǎn)尉бr底（例如 Si、GaAs、InP、GaN）和外延
層，包括多層結(jié)構(gòu)
參數(shù)：層厚度、成分和松弛、應(yīng)變、區(qū)域均勻性、失配、摻雜劑水平、錯(cuò)切、層傾斜。
·直接測(cè)量多層結(jié)構(gòu)內(nèi)層的松弛/應(yīng)變/組成
·自動(dòng)樣品校準(zhǔn)、測(cè)量、分析和報(bào)告

·由 JV-RADS 軟件執(zhí)行的分析。
·化合物半導(dǎo)體襯底可實(shí)現(xiàn)對(duì)稱、非對(duì)稱和斜對(duì)稱反射

VeloSWAP: 高級(jí)樣品板

運(yùn)動(dòng)學(xué)樣品板：可以快速更換樣品板——每個(gè)板都可以在幾秒鐘內(nèi)移除/更換。 由于運(yùn)動(dòng)加載，安裝后無(wú)需對(duì)齊板。 可以提供多個(gè)板并互換使用。
·31 x 2” 運(yùn)動(dòng)學(xué)樣品板，用于大批量測(cè)量，以增加板重新加載之間的
時(shí)間并提高生產(chǎn)力和工具效率。
·外部條碼閱讀器可以安裝到工具或獨(dú)立站。

JV-QCVelox 配備機(jī)器人，可從晶圓盒進(jìn)行全自動(dòng)測(cè)量

·2” 至 200 毫米磁帶
·自動(dòng)檢測(cè)晶圓盒尺寸
·任意數(shù)量插槽的任意配方組合
·提高更大晶圓尺寸的生產(chǎn)力
·無(wú)需人工處理晶圓，提高晶圓清潔度

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